Установка фотонной обработки пленочных оптически непрозрачных покрытий путем воздействия некогерентным излучением мощных ксеноновых ламп в различных средах (вакуум, инертные и реактивные газы).
Вакуумная установка с масля-ной системой откачки для по-лучения методом термического испарения и конденсации ме-таллических покрытий и фор-мирования контактов для элек-трофизических измерений. Возможен подогрев подложки до температуры 900°С